Ngày 1/12/2005, Intel Corp. thông báo công ty sẽ bắt đầu xây dựng ngay một nhà máy sản xuất chất bán dẫn tiên tiến trị giá 3,5 tỉ USD ở Kiryat Gat, Israel.

Nhà máy này có tên là Fab 28, là nhà máy thứ bảy trên toàn thế giới của Intel có khả năng sản xuất “bánh” silicon 300mm, từ đó làm ra các bộ vi xử lí. Hiện Intel có 5 nhà máy chip 300mm tại Mỹ và nhà máy thứ 6 ở Ireland.

So với chế tạo chip từ các “bánh” silicon 200mm, việc sử dụng “bánh” silicon 300mm sẽ tiết kiệm được 40% năng lượng và nước cho mỗi “con” chip và giảm đáng kể giá thành sản xuất.

Nhà máy có diện tích nhà xưởng khoảng 18.581 m2 và đến cuối năm 2008 sẽ là nhà máy đầu tiên của Intel đưa công nghệ 45nm vào sản xuất hàng loạt (công nghệ 45nm cho phép tạo ra các mạch điện trên bề mặt chip có kích thước chỉ bằng ½ kích thước mạch điện tạo ra bằng công nghệ 90nm hiện tại).

Nhà máy sẽ tạo 2.000 chỗ làm việc trong vài năm tới, và Intel cho biết chính phủ Israel đã có những khích lệ về mặt tài chính cho nhà máy.

Hồi tháng 7/2005, Intel đã thông báo về kế hoạch đầu tư hơn 3 tỉ USD để xây dựng nhà máy thứ hai có tên là Fab 32 ở Chandler, Arizona (Mỹ). Họ cũng sẽ mở rộng nhà máy ở Ireland trong quý I năm 2006.

(Theo IDG News)